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                                                                    新聞中心

                                                                    plasma光催化的材質是由貴金屬納米顆粒和半導體材料構成的

                                                                    • 分類:技術支持
                                                                    • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
                                                                    • 來源:plasma
                                                                    • 發布時間:2022-10-26
                                                                    • 訪問量:

                                                                    【概要描述】plasma光催化的材質是由貴金屬納米顆粒和半導體材料構成的: ? ? ? ?石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作為一項無金屬能見光催化劑,鑒于其獨特的結構和性能,在太陽能轉換和環境治理領域引起了廣泛的關注。但單一的g-C3N4也存在著比表面積小、電子空穴復合率高等現象,因此提出了新型plasma通過金屬表面,光催化材料的概念plasma效應對g-C3N進行表面修飾,進而提高光催化性能。 ? ? ? ? ?石墨材料相氮化碳(g-C3N4)僅由C.N物質組成,原料制取劃算,制備方法簡單,能帶位置合適,光學性能好,熱穩定性好,化學穩定性好。殊不知,當光照射到氮化碳表面產生電子和空穴時,光生電子在滿足半導體-電解質界面之前會復合,這將極大地影響光催化的效率。 ? ? ? ?科學家們試圖優化金屬元素或非金屬元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N從而改變材料的電子結構,調整骨架中的新元素g-C3N光學等物理性質的作用。 ? ? ? ? plasma光催化材料,即鑒于貴金屬納米顆粒表面等離子體共振效應的金屬納米顆粒和半導體材料的光催化材料,當貴金屬納米顆粒(主要是Au和Ag,分散到半導體光催化劑中,擴張能見光吸收范圍,增強光吸收能力。 ?

                                                                    plasma光催化的材質是由貴金屬納米顆粒和半導體材料構成的

                                                                    【概要描述】plasma光催化的材質是由貴金屬納米顆粒和半導體材料構成的:
                                                                    ? ? ? ?石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作為一項無金屬能見光催化劑,鑒于其獨特的結構和性能,在太陽能轉換和環境治理領域引起了廣泛的關注。但單一的g-C3N4也存在著比表面積小、電子空穴復合率高等現象,因此提出了新型plasma通過金屬表面,光催化材料的概念plasma效應對g-C3N進行表面修飾,進而提高光催化性能。
                                                                    ? ? ? ? ?石墨材料相氮化碳(g-C3N4)僅由C.N物質組成,原料制取劃算,制備方法簡單,能帶位置合適,光學性能好,熱穩定性好,化學穩定性好。殊不知,當光照射到氮化碳表面產生電子和空穴時,光生電子在滿足半導體-電解質界面之前會復合,這將極大地影響光催化的效率。
                                                                    ? ? ? ?科學家們試圖優化金屬元素或非金屬元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N從而改變材料的電子結構,調整骨架中的新元素g-C3N光學等物理性質的作用。
                                                                    ? ? ? ? plasma光催化材料,即鑒于貴金屬納米顆粒表面等離子體共振效應的金屬納米顆粒和半導體材料的光催化材料,當貴金屬納米顆粒(主要是Au和Ag,分散到半導體光催化劑中,擴張能見光吸收范圍,增強光吸收能力。
                                                                    ?

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                                                                    • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
                                                                    • 來源:plasma
                                                                    • 發布時間:2022-10-26 16:15
                                                                    • 訪問量:
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                                                                    plasma光催化的材質是由貴金屬納米顆粒和半導體材料構成的:
                                                                           石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作為一項無金屬能見光催化劑,鑒于其獨特的結構和性能,在太陽能轉換和環境治理領域引起了廣泛的關注。但單一的g-C3N4也存在著比表面積小、電子空穴復合率高等現象,因此提出了新型plasma通過金屬表面,光催化材料的概念plasma效應對g-C3N進行表面修飾,進而提高光催化性能。

                                                                    plasma         石墨材料相氮化碳(g-C3N4)僅由C.N物質組成,原料制取劃算,制備方法簡單,能帶位置合適,光學性能好,熱穩定性好,化學穩定性好。殊不知,當光照射到氮化碳表面產生電子和空穴時,光生電子在滿足半導體-電解質界面之前會復合,這將極大地影響光催化的效率。
                                                                           科學家們試圖優化金屬元素或非金屬元素的混合g-C3N性能的目的g-C3N從而改變材料的電子結構,調整骨架中的新元素g-C3N光學等物理性質的作用。
                                                                            plasma光催化材料,即鑒于貴金屬納米顆粒表面等離子體共振效應的金屬納米顆粒和半導體材料的光催化材料,當貴金屬納米顆粒(主要是Au和Ag,分散到半導體光催化劑中,擴張能見光吸收范圍,增強光吸收能力。

                                                                     

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