H2或AR等離子體發生器對石墨烯的機理

• 分類：業界動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：等離子體發生器生產廠家
• 發布時間：2022-11-03
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【概要描述】H2或AR等離子體發生器對石墨烯的機理： ? ? ? ? 這一現象說明經H2或AR等離子體處理后，氧化石墨烯懸浮液由液體變為固體，顏色變化表明氧化石墨烯一部分還原。H2或AR等離子體處理后樣品的低倍和高倍掃描電鏡，都可以顯著地觀察到相互交聯、多孔的網絡結構。 在crf等離子體發生器處理方式中試樣一直處在低氣壓狀況，結成的冰直接升華為水蒸氣，從而維持了試樣三維多孔的形貌。對H2和Ar等離子體處理前后的試樣進行拉曼光譜的測定。H2或AR等離子體發生器都可以還原氧化石墨烯，且H2(還原性氣體)等離子體對氧化石墨烯的還原水平尤為明顯。 ? ? ? ? H2或AR等離子體發生器能夠對氧化石墨烯進行還原的原因，主要是因為H2和Ar等離子體能量可以有效地切斷氧化石墨烯片層表面及邊緣的含氧鍵，使得氧化石墨烯的含氧官能團減少，一部分還原。用同種氣體等離子體處理氧化石墨烯溶液，等離子體放電輸出功率，能量越大，氧化石墨烯的還原水平就越大。 ? ? ? ?射頻等離子體發生器清洗方法一步快速、有效地還原了氧化石墨烯。通過改變放電氣體的類型及放電功率，經拉曼光譜的測試表明，氣體的還原性越強，放電輸出功率，對氧化石墨烯的還原水平就越高。射頻等離子體方法還原處理后得到的三維多孔石墨烯材料，可進一步應用于電容器、儲能等領域。