深圳市誠峰智造有限公司,歡迎您!

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                                      專業致力于提供電子行業的制造設備及工藝流程解決方案的plasma等離子體高新技術企業

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                                      自動On-Line式AP等離子處理系統 CRF-APO- 500W-C/W-S
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                                      自動On-Line式AP等離子處理系統 CRF-APO- 500W-C/W-S

                                      零售價
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                                      型號:
                                      CRF-APO- 500W-C/W-S
                                      所屬分類
                                      自動On-Line式
                                      數量
                                      -
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                                      DSC_8246
                                      產品概述
                                      參數
                                      設備參數

                                      產品特點

                                      ● 帶有自動上下料裝置,實現全自動化生產,設備優化升級,節省人工,降低成本;

                                      ● 配置PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便;

                                      ● 可選配噴頭數量,滿足客戶多元化需求;

                                      ● 配置專業集塵系統,保證產品品質和等離子表面處理設備的整潔、干凈。


                                      應用范圍

                                      自動On-Line式AP專業等離子清洗機主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

                                       

                                      專業等離子體清洗機plasma改性活化為干式清洗設備,具有濕式清洗不可比擬的優點,它在清洗材料表面的同時,也對材料進行了活化,有利于材料進行下一步的涂覆粘接等處理。等離子體處理機廣泛用于等離子清洗、蝕刻、等離子鍍膜、等離子涂層、等離子灰化及表面改性等方面。經處理后,可提高材料的潤濕性,使多種材料都能進行涂覆、電鍍作業,增強粘結力和粘結力,同時去除有機污染物、油污和油脂等。

                                       

                                      等離子體表面清洗活化是由等離子體中的離子取代材料表面高分子官能團,增加表面能量的過程。等離子體活化常用于處理膠粘或印刷材料的表面。等離子體可以分解聚合物,并在接觸高能物質的材料表面產生自由基。等離子體中含有高水平紫外輻射,能在塑料或聚四氟乙烯表面產生自由基。由于材料不穩定,自由基能迅速與其自身產生反應。這樣,材料表面就可以形成穩定的共價鍵,這樣就可以印刷或與之結合。


                                      等離子體是一種物質的高能聚集狀態,其能量范圍比氣態、液體、固態更大,被稱為物質的第四態。等離子體中存在電子、離子和具有一定能量分布的中性粒子,它們在與材料表面碰撞時向材料表面的分子和原子傳遞能量,并產生一系列物理和化學過程。有些粒子也會在材料表面注入引起碰撞、散射、激發、重排、異構、缺陷、晶化和非晶化,導致材料表面性能的變化。


                                      按照溫度的不同,等離子體可以分為高溫等離子體和低溫等離子體。高熱等離子體可以達到10^6k~10^8k,可以用于太陽表面,核聚變,激光聚變等。一般情況下,熱等離子體為稠密等離子體,冷等離子體為稀薄等離子體。濺射、離子鍍、離子注入、等離子熱處理等技術應用于材料表面改性技術,是在低電壓條件下放電產生低壓(冷)等離子體,而低溫等離子體中的稠密熱等離子體,通常是指壓縮電弧等離子束流,也可用于等離子噴涂、淬火表面冶金等表面處理。


                                      專業等離子體表面清洗改性技術是一種利用物理和化學方法改變材料或工件表面的組織結構和化學組成,從而改善機械零件或材料性能的熱處理技術。包括化學熱處理(滲氮、滲碳、滲金屬等);表面涂層(低壓等離子噴涂、低壓電弧噴涂、薄膜鍍層,如激光重熔復合、物理氣相沉積、化學氣相沉積等);非金屬涂層技術等。用來加強零件或材料表面的技術,使零件具有耐高溫、耐腐蝕、耐磨損、抗疲勞、抗輻射、導電、導磁等多種新性能。使得原零件在高速、高溫、高壓、腐蝕介質環境下工作,提高了可靠性,延長了使用壽命。

                                      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

                                      名稱(Name)

                                      自動On-Line式AP等離子處理系統

                                      型號(Model)

                                      CRF- APO-500W-C/W-S

                                      非標準定制Non-standard customization

                                      電源(Power supply)

                                      220V/AC,50/60Hz

                                      等離子功率(Power)

                                      4set*600W/25KHz(Option)

                                      有效處理高度(Processing height)

                                      5-15mm

                                      處理寬幅(Processing width)

                                      500mm(Option)

                                      處理速度(Processing speed)

                                      0-5m/min

                                      傳動方式(Drive mode )

                                      防靜電絕緣傳送帶(Antistatic insulating conveyer)

                                      防靜電絕緣滾輪(Antistatic insulation wheel)

                                      噴頭數量(Number)

                                      4(Option)

                                      工作氣體(Gas)

                                      Compressed Air(0.4mpa)

                                      自動化裝置(Automation device)

                                      全自動上下料

                                       

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